Double Patterning 原理
2018年4月26日—接下來是另一類聰明一點的多重曝光,可以統稱為SADP(Self-AligningDoublePatterning)。例如SideWallTransfer就是核心的實現方式。主要是利用第一 ...,2008年12月25日—雙重曝光(DoublePatterning;DP)是半導體為因應摩爾定律延伸所發展的新曝光技術。...
7nm 制程工艺如何实现?
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2020年7月4日—最主要的两种方法就是双重曝光技术(doubleexposure,DE)和自对准双重成像技术(self-aligneddoublepatterning,SADP)。...下面简单介绍一下SADP原理, ...
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